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昆山国华电子等离子设备喷涂工艺

发布时间:2019-06-04 点击次数:377

昆山国华电子等离子喷涂工艺特点:

等离子设备喷涂工艺热源温度范围宽,可喷涂材料几乎包括所有固态工程材料,如金属、合金、陶瓷、金属陶瓷、塑料以及由它们组成的复合物等,因而能赋予基体以各种功能(如耐磨、耐蚀、耐高温、抗氧化、绝缘、隔热、生物相容、红外吸收等),成本低,经济效益显著。

1) 热源温度高(17000K),适用于难熔材料的喷涂

2) 等离子射流速度大,可高达几十至几百米/秒,因此涂层与基体具有较高的结合强度,而且涂层较为致密

3) 喷涂过程中对基体的热影响较小,可以对已成型的工件进行表面喷涂

4) 喷涂工艺规程稳定,操作比较简便,喷涂效率较高


昆山国华电子等离子设备喷涂工艺生产出的涂层有很多优势。涂层致密性好,粘结性强,不会被污染,金属涂层中没有氧化物。在用无反应大气装填的喷涂室内喷涂的陶瓷等非金属涂层纯度很高。并且,诸如钨等高熔点金属涂层应用也很成功。由于喷枪与工件之间的距离不像大气喷涂条件下那么关键,所以部件控制变得简单。喷涂工艺时间可以大大缩短,这是因为等离子羽流剖面均匀,“焦斑直径”可以很大。此外,没有大气冷却涂层粒子意味着涂层凝固过程比较缓慢。大气等离子涂层几乎没有夹层“薄片”,涂层的晶体结构接近铸件材料的晶体结构。 

等离子设备喷涂工艺的一个独特属性是能够用逆向转换弧(RTA)在喷涂室内冶金地清洗工件,然后立即进行涂层工艺。这样一来,大大提高了涂层的粘结力。




目前,等离子设备喷涂工艺用于制备热障涂层的陶瓷面层和金属过渡层。按喷涂环境不同而分类的等离子喷涂有以下几种工艺:大气等离子喷涂(APS),保护气氛(氩气)等离子喷涂(ASPS),低压(LPPS)或真空等离子喷涂(VPS)

大气等离子喷涂法是应用最为广泛的常规喷涂方法,具有操作方便,生产效率高的特点,但涂层质量高而且涂层致密度和结合强度高。

真空等离子喷涂法由于从根本上克服了等离子射流同环境气氛的相互作用,因此可获得与原始喷涂材料成分一致的纯净涂层,而且等离子射流速度快(240~610ms),由此形成的涂层致密,结合强度与APS涂层相比较高。通常,MCrAlY粘结层采用LPPSVPS工艺制备,而YSZ陶瓷层的制备则采用APS方法。



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